「SEMICON JAPAN」 出展!

2018.11.15

電子システム工学科 六倉信喜教授、篠田宏之准教授の研究室が「SEMICON JAPAN(セミコン・ジャパン)」に出展します。
SEMICON JAPANは、半導体製造装置・材料の世界有数の国際展示会です。
世界から750以上の出展社が最先端の製造技術を展示し、技術・ビジネスの様々なテーマを取り上げるセミナーや交流イベント等も開催します。

六倉教授、篠田准教授の研究室では、各種化合物半導体単結晶層の多層薄膜の形成を目的とした「低コスト・マルチターゲット型スパッタエピタキシー装置」の開発を行っています。
本展示では、高品質化合物半導体単結晶層の成長を低コスト・低環境負荷で実現可能なスパッタエピタキシー装置についてご紹介します。

開催日時
平成30年12月12日(水)~12月14日(金)
開催場所
東京ビッグサイト
入  場
無料・事前登録制
小間番号
1111
展示内容
【スパッタエピタキシー装置の開発】(特許取得済み)
 ・多品種・多層薄膜の連続形成が可能(マルチターゲット方式)
 ・単一電極方式を採用
 ・ターゲット材料を連続的に交換可能
 ・到達圧力は10 -8 Pa以下
 ・1200°Cの高温成長が可能
 ・真空チャンバーの小型化を実現
 ・低環境負荷の成長法

【Ga系ターゲットの開発】
 ・平板型Gaターゲットを実現
 ・不純物が極めて少ない

【高品質化合物半導体単結晶層の成長】
 ・GaN系・ZnO系・ZnS系化合物半導体単結晶層の成長
 ・不純物ドープ化合物半導体単結晶層の成長

★詳しい展示内容はこちら★
東京電機大学 六倉/篠田研究室(SEMICON Japan)